残留

Topic LCI-USG-0023, Last Updated 11/21/2024

当之前注入的分析物在后续样品的色谱中显示为峰时，可以观察到色谱系统中的残留。

当进样后有少量的分析物保留在系统中时，容易出现残留。在分析样品之后立即运行一个空白样，通过观察出现的分析物峰即可测量残留。

Waters 规定 Alliance iS HPLC System 上的样品残留最大为 0.002%。

通常，存在残留的原因是系统清洗不充分，特别是样品针。选择合适的清洗溶剂可以尽可能地减少特定分析的残留（请参阅清除和清洗溶剂指导原则）。清洗溶剂必须足够强，以溶解样品针上任何残余的样品，而清洗持续时间必须足够长，以清除系统中的残留物。

方法条件也会影响残留。如果最终梯度条件的保持时间太短，可能无法清除系统或色谱柱中的所有分析物，尤其是当梯度斜率较大时。在进行后续分析之前，彻底清洗系统并重新平衡色谱柱至关重要。

试图使残留降至最小时，除了考虑来自样品制备工具的污染外，样品的疏水性和溶解性以及样品制备时的清洁度也是需要考虑的因素。

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